[1] M. Wittmerand H. Melchior, Thin Solid Films 93, 397(1982).
[2] H. O. Pierson, Handbook of Refractory Carbides and Nitrides, William Andrew: Elsevierence, (1996).
[3] M. Wittmer, J. Vac. Sci. Technol. A 3, 1797(1985).
[4] H. D. Wu, W. Huang, W. F. Lu, R. F. Tang, C. Li, H. K. Lai, S. Y. Chen, and C. L. Xue, Appl. Surf. Sci. 284, 877(2013).
[5] N. Ramanuja, R. A. Levy, S. N. Dharmadhikari, E. Ramos, C. W. Pearce, S. C. Menasian, P. C. Schamberger, and C. C. Collins, Mater. Lett. 57, 261(2002).
[6] C. Ren, C. M. Yang, C. Lyu, C. Y. Hsu, T. C. Chen, H. C. Wang, H. Yang, W. T. Lin, P. C. Juan, C. H. Huang, D. G. Pijanowska, J. C. Wang, and J. R. Tsai, Vacuum 118, 113(2015).
[7] A. Sugihara, S. Osaki, and R. Nakatani, J. Jpn. Inst. Met. Mater. 77, 398(2013).
[8] Y. Nishio, T. Yamaguchi, K. Nishio, and S. Hayase, J. Appl. Electrochem. 46, 551(2016).
[9] G. Q. Wang and S. M. Liu, Mater. Lett. 161, 294(2015).
[10] J. Xing, H. Y. Hao, and Z. Y. Zheng, Opt. Adv. Mat. 5, 1174(2011).
[11] V. V. Osipov and A. M. Bratkovski, Spin Injection Devices 7164181(2005).
[12] P. Borisov, A. Hochstrat, V. V. Shvartsman, W. Kleemann, and P. M. Hauck, Integr. Ferroelectr. 99, 69(2008).
[13] S. A. Wolf, D. D. Awschalom, R. A. Buhrman, J. M. Daughton, S. von Molnár, M. L. Roukes, A. Y. Chtchelkanova, and D. M. Treger, Science 294, 1488(2001).
[14] S. X. Wu, Y. Q. Xia, X. L. Yu, Y. J. Liu, and S. W. Li, J. Appl. Phys. 102, 063911(2007).
[15] K. R. Kittilstved, W. K. Liu, and D. R. Gamelin, Nat. Mater. 5, 291(2006).
[16] S. Q. Ren, H. W. Qin, J. P. Bu, G. C. Zhu, J. H. Xie, and J. F. Hu, Appl. Phys. Lett. 107, 062404(2015).
[17] J. M. Baik, Y. Shon, T. W. Kang, and J. L. Lee, Appl. Phys. Lett. 89, 152113(2006).
[18] J. M. Baik, Y. Shon, T. W. Kang, and J. L. Lee, Appl. Phys. Lett. 84, 1120(2004).
[19] L. Miao, S. Tanemura, H. Watanabe, Y. Mori, K. Kaneko, and S. Toh, J. Cryst. Growth 260, 118(2004).
[20] L. A. Zhang, S. Tong, H. N. Liu, Y. L. Li, and Z. Wang, Mater. Lett. 171, 304(2016).
[21] I. V. Blinkov, A. O. Volkhonskii, and Y. V. Konyukhov, Russ. Metall. 2012, 599(2012).
[22] S. Tanemura, L. Miao, Y. Kajino, M. Tanemura, S. Toh, K. Kaneko, and Y. Mori, Jpn. J. Appl. Phys. 46, 356(2007).
[23] N. Jiang, H. J. Zhang, S. N. Bao, Y. G. Shen, and Z. F. Zhou, Phys. B 352, 118(2004).
[24] A. Herwadkar and W. R. L. Lambrecht, Phys. Rev. B 72, 235207(2005).
[25] X. K. Ning, Z. J. Wang, and Z. D. Zhang, Sci. Rep. 5, 8460(2015).
[26] K. Yamane, K. Hamaya, Y. Ando, Y. Enomoto, K. Yamamoto, T. Sadoh, and M. Miyao, Appl. Phys. Lett. 96, 162104(2010).
[27] T. Priem, B. Beuneu, C. H. de Novion, R. Caudron, F. Solal, and A. N. Christensen, Solid State Commun. 63, 929(1987).
[28] V. V. Bannikov, I. R. Shein, N. I. Medvedeva, and A. L. Ivanovskii, J. Magn. Magn. Mater. 321, 3624(2009).
[29] M. B. Haider, C. Constantin, H. Al-Brithen, H. Q. Yang, E. Trifan, D. Ingram, A. R. Smith, C. V. Kelly, and Y. Ijiri, J. Appl. Phys. 93, 5274(2003).
[30] J. M. Baik, Y. Shon, T. W. Kang, and J. L. Lee, Appl. Phys. Lett. 87, 042105(2005).
[31] S. G. Jeong, H. Y. Park, M. H. Lim, W. S. Jung, H. Y. Yu, Y. Roh, and J. H. Park, Org. Electron. 13, 1511(2012).
[32] S. X. Wu, Y. Q. Xia, X. L. Yu, Y. J. Liu, and S. W. Li, J. Appl. Phys. 102, 063911(2007).